化学试剂纯度
我国试剂的规格基本上按纯度(杂质量)划分,包括高纯度、光谱纯度、标准、光谱纯度、高纯度、分析和化学纯度。国家和主管部门发布的主要质量指标有三项:优质纯度、分级纯度和化学纯度。
(1) GR:保证试剂,也称为一级产品或保证试剂,为99.8%。该试剂纯度高,杂质含量低。它适用于重要和精确的分析工作和科学研究工作。使用绿色瓶子标签。
(2) 分析纯度(AR)也称为二级试剂,纯度高达99.7%,略低于高纯度。它适用于重要分析和一般研究工作。使用红色瓶子标签。
(3) 化学纯度(CP),也称为三级试剂,≥ 纯度与分析纯度相差较大,适用于工业、矿山和学校的一般分析工作。使用蓝色(深蓝色)标签。
(4) LR:实验室试剂,也称四级试剂。
除上述四个层面外,还有:
Pt:一级试剂:专门用作对照品,可直接配制标准溶液。
SP:光谱纯:表示光谱纯。然而,由于有机物不能在光谱中显示,有时主成分低于99.9%,因此在使用时必须注意它,特别是当它用作标准物质时,我们必须对其进行校准。
纯度远高于优等品的试剂称为高纯度试剂(≥ 99.99%). 高纯度试剂是在普通试剂的基础上发展起来的。它是通过特殊方法为特殊目的生产的纯度较高的试剂。其杂质含量比优质试剂低2、3、4个数量级以上。因此,高纯度试剂特别适用于某些痕量分析,而通常的高纯度试剂不能满足这种精密分析的要求。目前,除少数产品(如高纯度硼酸、高纯度冰乙酸、高纯度氢氟酸等)制定国家标准外,大多数高纯度试剂的质量标准并不统一,有高纯度、超纯、光谱纯度等不同名称。根据高纯度试剂的不同行业特殊范围,可分为以下类型:
(1) 光学和电子用高纯度化学品,即电子级试剂。
(2)金属氧化物半导体是一种用于电子工业的特殊高纯度化学品,即up-s级或MOS试剂(阅读:moss试剂)。一般用于半导体、电子管等方面。金属杂质含量小于1ppb,粉尘水平达到0-2ppb,适用于0.35-0.8微米集成电路加工工艺。
(3) 单晶生产用高纯度化学品。
(4) 光纤用高纯度化学品。
此外,还有仪器试剂、超纯试剂(杂质含量低于1/100万~1/100万)、特殊高纯度有机材料等。
(5) ICP质量纯级试剂:大部分杂质元素含量小于0.1ppb,适合日常ICP质量分析。
(6) ICP纯级试剂:大部分杂质元素含量小于1ppb,适用于ICP的日常分析。
(7) AA纯级试剂:大多数杂质元素含量低于10 ppb,适用于原子吸收光谱仪(AA)的日常分析。