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化学试剂纯度
我国试剂的规格基本上按纯度（杂质量）划分，包括高纯度、光谱纯度、标准、光谱纯度、高纯度、分析和化学纯度。国家和主管部门发布的主要质量指标有三项：优质纯度、分级纯度和化学纯度。
（1） GR：保证试剂，也称为一级产品或保证试剂，为99.8%。该试剂纯度高，杂质含量低。它适用于重要和精确的分析工作和科学研究工作。使用绿色瓶子标签。
（2） 分析纯度（AR）也称为二级试剂，纯度高达99.7%，略低于高纯度。它适用于重要分析和一般研究工作。使用红色瓶子标签。
（3） 化学纯度（CP），也称为三级试剂，≥ 纯度与分析纯度相差较大，适用于工业、矿山和学校的一般分析工作。使用蓝色（深蓝色）标签。
（4） LR：实验室试剂，也称四级试剂。
除上述四个层面外，还有：
Pt：一级试剂：专门用作对照品，可直接配制标准溶液。
SP：光谱纯：表示光谱纯。然而，由于有机物不能在光谱中显示，有时主成分低于99.9%，因此在使用时必须注意它，特别是当它用作标准物质时，我们必须对其进行校准。
纯度远高于优等品的试剂称为高纯度试剂(≥ 99.99%). 高纯度试剂是在普通试剂的基础上发展起来的。它是通过特殊方法为特殊目的生产的纯度较高的试剂。其杂质含量比优质试剂低2、3、4个数量级以上。因此，高纯度试剂特别适用于某些痕量分析，而通常的高纯度试剂不能满足这种精密分析的要求。目前，除少数产品（如高纯度硼酸、高纯度冰乙酸、高纯度氢氟酸等）制定国家标准外，大多数高纯度试剂的质量标准并不统一，有高纯度、超纯、光谱纯度等不同名称。根据高纯度试剂的不同行业特殊范围，可分为以下类型：
（1） 光学和电子用高纯度化学品，即电子级试剂。
（2）金属氧化物半导体是一种用于电子工业的特殊高纯度化学品，即up-s级或MOS试剂（阅读：moss试剂）。一般用于半导体、电子管等方面。金属杂质含量小于1ppb，粉尘水平达到0-2ppb，适用于0.35-0.8微米集成电路加工工艺。
（3） 单晶生产用高纯度化学品。
（4） 光纤用高纯度化学品。
此外，还有仪器试剂、超纯试剂（杂质含量低于1/100万～1/100万）、特殊高纯度有机材料等。
（5） ICP质量纯级试剂：大部分杂质元素含量小于0.1ppb，适合日常ICP质量分析。
（6） ICP纯级试剂：大部分杂质元素含量小于1ppb，适用于ICP的日常分析。
（7） AA纯级试剂：大多数杂质元素含量低于10 ppb，适用于原子吸收光谱仪（AA）的日常分析。